Logo
Uniepedie
Sdělení
Nyní na Google Play
Nový! Ke stažení Uniepedie na vašem zařízení se systémem Android™!
Bezplatná
Rychlejší přístup než prohlížeči!
 

Fyzikální depozice z plynné fáze

Index Fyzikální depozice z plynné fáze

Fyzikální depozice z plynné fáze (Physical Vapour Deposition, zkratka PVD) je označení skupiny technik vakuové depozice tenkých vrstev.

4 vztahy: Chemická depozice z plynné fáze, Naprašování, Pascal (jednotka), Vakuum.

Chemická depozice z plynné fáze

uhlíkových nanotrubic metodou '''PECVD''' Chemická depozice z plynné fáze (CVD - Chemical Vapor Deposition) je chemický proces využívaný pro přípravu tenkých filmů (např. polovodičový průmysl).

Nový!!: Fyzikální depozice z plynné fáze a Chemická depozice z plynné fáze · Vidět víc »

Naprašování

Naprašování řadíme spolu s napařováním do technologií fyzikální depozice par, jež jsou souhrnně označovány jako PVD (physical vapour deposition).

Nový!!: Fyzikální depozice z plynné fáze a Naprašování · Vidět víc »

Pascal (jednotka)

Pascal (značka Pa) je jednotka tlaku.

Nový!!: Fyzikální depozice z plynné fáze a Pascal (jednotka) · Vidět víc »

Vakuum

Školní vývěva k demonstračním účelům Vakuum (z lat. vacuus, prázdný) česky též vzduchoprázdno znamená prázdný prostor, ve fyzice prostor s velmi malou hustotou částic.

Nový!!: Fyzikální depozice z plynné fáze a Vakuum · Vidět víc »

OdchozíPřicházející
Ahoj! Jsme na Facebooku teď! »